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《芯片战争》作者谈“中日荷光刻机三国杀”

时间: 2025-03-17 09:52:44 |   作者: 卧式气流筛

  2024年,阿斯麦的股市表现很不好看。年初市值约2800亿美元,一年过去,到2025年年初,市值却仍然是2800亿美元。由于第三季度的财报披露新增订单量仅为26亿欧元,远低于分析师预期的54亿欧元,导致市场信心大跌,阿斯麦的市值在11月15日跌到年内最低谷的2591亿美元。与7月10日最高峰的4324亿美元相比,足足跌去了40%。

  有意思的是,阿斯麦股市表现差,但阿斯麦的最大客户台积电,2024年的股市表现却相当优异,市值从年初的5200亿美元,涨到年末的11000亿美元,差不多翻了一倍。在阿斯麦最惨的第三季度,其季报显示营收和净利润的同比增长分别为12%和15%。同期,台积电交出的却是一份相当靓丽的季报:营收和净利润同比分别增长39%和54%。我们大家都知道,2024年度AI概念大热,市场对AI芯片的需求非常旺盛。受此影响,台积电高性能计算业务早已超过手机成为台积电最重要的业务,占收入的比重高达53%(Q4),AI芯片业务又是其高性能计算业务中增长最快的。其最先进制程3纳米占整体晶圆收入的比重提高到了26%(Q4)。

  台积电最先进制程所需要的EUV光刻机只能向阿斯麦采购,但台积电对EUV的强烈需求弥补不了阿斯麦其它客户的EUV订单损失。阿斯麦2024年仅卖了44台极紫外(EUV)光刻机,比上一年减少9台,相当于下降了17%。这主要是受英特尔、三星和SK海力士等客户的需求萎缩有关。特别是英特尔,市值大跌至可怜的800多亿美元,连CEO都辞职了,已经没钱去采购昂贵的EUV。EUV是阿斯麦营收和利润的重头戏,EUV的销售低迷自然对阿斯麦的股价产生了重大影响。

  比EUV销售差更大的业绩影响因素,是非市场因素的政治干扰。中国原本是阿斯麦最大的客户,2024年第一季度,中国市场占阿斯麦销售额的49%。但受美国政府对光刻机出口中国的限制措施的严重影响,中国市场给阿斯麦贡献的销售占比持续下降,2024年第四季度仅有27%,预计2025年将下降至20%左右。2024年9月,荷兰政府被迫逐步扩大了对华光刻机出口限制范围,要求阿斯麦向中国出口特定型号的浸润式深紫外(DUV)光刻机及相关服务时需申请许可。这是阿斯麦2024年第三季度新增订单量大跌的重要原因。

  阿斯麦退出中国市场,给了竞争对手可乘之机。2023年12月,全球第二大光刻机厂商尼康宣布推出浸润式 ArF 光刻机新品NSR-S636E,将于2024年1月开售。在此之前,尼康已中标了上海积塔半导体招标的ArFi浸润入式DUV光刻机,说明上海积塔半导体很可能是尼康新款光刻机的首个客户,甚至有可能是共同研发伙伴,就像当年台积电与阿斯麦共同研发浸润式光刻机和EUV光刻机一样。尼康的NSR-S636E是一款高性能的光刻设备,分辨率≤38纳米,数值孔径(NA)1.35,套刻精度(MMO)≤2.1纳米,最高可满足7纳米工艺的芯片制造需求。

  尼康和佳能曾在1990年代之前主导光刻机市场,后来在浸润式光刻机的竞争中被阿斯麦打败,基本退出高端光刻机领域的竞争。这回尼康卷土重来,是时隔二十多年首次推出高端光刻机产品,瞄准的正是阿斯麦退出的中国市场。尼康野心勃勃,计划在2026年之前将其对中国市场的光刻机出货量提高到原来的三倍。当然,尼康也宣称其会在“遵守规则的同时扩大业务”。个人觉得,这句话背后的潜台词是:尼康的光刻技术不含任何的美国技术成份,所以能不受美国相关制裁政策的约束。

  几年前,我在写《芯片战争》这本书的时候就认为,中国如果要想在光刻机上突围,一定得找尼康合作。尼康毕竟是光刻机行业老二,虽然差阿斯麦老远,却比中国的光刻机厂强太多了。国际合作和自主研发,两手都要硬。国际合作是优先选项,自主研发是备胎选项。

  不仅是尼康,中国的光刻机厂商也在努力缩小和台积电的差距。早在2020年6月,上海微电子设备有限公司就透露将在2021-2022年交付首台国产28纳米工艺浸没式光刻机。2024年9月,工信部发布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录》显示,国产氟化氩光刻机已具备 65 纳米分辨率及 8 纳米套刻精度。有消息称,2025年1月7日,中国首台国产28纳米芯片光刻机由上海微电子装备(集团)股份有限公司研发成功并交付使用,核心零部件国产化率超90%,单次曝光能直接生产出28纳米级别的芯片,配合套刻精度约为1.9纳米的工作台,经过多次曝光后,还可以实现11纳米制程工艺的芯片生产。如果该消息属实,将标志着中国芯片产业在关键技术上取得了重大突破!

  要知道,从90纳米到7纳米芯片的生产,使用的其实都是一样的DUV光刻机,区别仅在于数值孔径、分辨率、套刻精度等具体参数,生产7纳米芯片要求的精密程度比90纳米或28纳米要高得多。做到能生产28纳米芯片的光刻机,离7纳米光刻机已经是大大前进了一步。虽然国产28纳米光刻机的分辨率和套刻精度都还比不上阿斯麦2006年推出的DUV 光刻机XT的水准,但如果采用多重曝光工艺,应可支持14纳米制程芯片的生产。

  面对日本和中国同行快速追赶的2025年,阿斯麦缺乏信心能有足够好的市场表现,其CFO戴厚杰(Roger Dassen)干脆宣布自2025年起,公司将不再按季度公布新增订单金额。荷兰政府也坐不住了。荷兰政府早就对美国施压限制阿斯麦对华出口感到很不满,认为这影响了荷兰企业的经济利益。2025年1月,荷兰首相迪克·斯霍夫(Dick Schoof)在出席世界经济论坛2025年年会期间时,再次强调荷兰希望在阿斯麦对华出口问题上自行决定政策。

  阿斯麦在高端光刻机供应上的垄断被打破,2025年的中国芯片制造业崛起,值得期待。

  (作者简介:余盛,硬科技财经作家、荷兰商学院行业导师,著有《芯片战争》《芯片浪潮》《手机战争》《金龙鱼背后的粮油帝国》等作品。欢迎关注公众号“余盛”,第一时间阅读余盛本人的原创科技、财经和历史类深度评论文章。)

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